HBO Microlithography Lamps for Nikon i-line Systems

Produkteigenschaften

High spectral intensity with peak irradiance at 365nm wavelength, making it ideal for microlithography
Designed for long lasting performance
Qualified with Nikon

Anwendungsgebiete

Microlithography

Sicherheitshinweise
Wegen ihrer hohen Leuchtdichte, der abgegebenen UV-Strahlung und des hohen Lampeninnendruckes dürfen HBO Lampen nur in geschlossenen und eigens dafür konstruierten Gehäusen betrieben werden. Im Falle des Platzens einer Lampe wird Quecksilber freigesetzt. Es sind besondere Sicherheitsregeln zu beachten. Nähere Hinweise hierzu erhalten Sie auf Anfrage oder entnehmen Sie bitte dem Beipackzettel oder der Bedienungsanleitung.

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HBO lamps > 200W are designed to meet the high demands of the Semiconductor industry. With peak intensity at 365nm these lamps are ideal for microlithography and are designed and qualified for specific equipment manufacturers.

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Produktbezeichnung	Nennleistung	Nennspannung	Abstand Lichtschwerpunkt (LCL)	Länge
HBO 1000 W/NEL	750 W	47.0 V	84,5 mm	187.0 mm
HBO 1002 W/NEL	750 W	47.0 V	78,5 mm	187.0 mm
HBO 1002 W/NIL		27.1 V	78,5 mm	190.0 mm
HBO 2001 W/NIL	1750 W	26.0 V	122.25 mm	251.0 mm
HBO 2000 W/NIL	1750 W	26.0 V	112.25 mm	219.0 mm
HBO 2001 W/NIEL	1750 W	26.0 V	112,0 mm	251.0 mm
HBO 2002 W/NIL	1750 W	26.0 V	107,75 mm	232.0 mm
HBO 2011 W/NIL	2011 W	25 V	107,75 mm	256.0 mm
HBO 2011 W/NILH	2011 W	24.0 V	107,75 mm	234.0 mm
HBO 2501 W/NIL	2500 W	23.0 V	157,75 mm	357.0 mm
HBO 2510 W/NIL	2500 W	23.0 V	157,75 mm	357.0 mm
HBO 3500 W/NIL	3500 W	27.0 V	180,0 mm	382.0 mm

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